光刻的原理，與沖洗照片是一樣的。首先，要把電路圖制作成底片，稱為掩膜。光源通過掩膜照射在涂了光刻膠的芯片基材上。
光刻膠由樹脂、感光劑、溶劑和添加劑組成，其中的感光劑在光線照射下會發生反應，使曝光區的光刻膠溶解，這就相當于把掩膜上的電路圖案復制到了芯片基材上。
隨后，再進行蝕刻、離子注入、封裝等操作，一枚芯片就制作完成了。
光刻膠中感光劑的選擇，與光源是密切相關的，這涉及到化合物在不同波長光線作用下的變化，機理十分復雜。
徐云是知道這些概念的。他原本就是物理系的學生，楓林研究所聘請他的老師前來參與這個項目，就是因為其中涉及到一些光學方面的問題。他在項目組里耳濡目染了這么久，對于這些問題自然是非常了解的。
聽到高凡的問題，徐云也只能把心里那些雜念拋開，認真地答道：“我們現在研究的重點，就是g線光刻膠，這也是目前應用最廣泛的。
“i線光刻膠這方面，畢主任在實驗室會議上提過幾次，讓大家有時間做一些積累，不過目前條件還不成熟。再至于說krf光刻膠，好像國外也剛剛開始研究吧？”
“你說i線光刻膠的條件不成熟，是指什么？”高凡問道。
徐云道：“不是我說的，而是畢主任說的。現在國內根本就沒有使用i線光源的光刻機，國外也不多，研究i線光刻膠，是不是有些操之過急了？”
“我想跟你說的，就是這個。”高凡說，“對了，徐師兄，摩爾定律你聽說過沒有？”
“當然聽說過。”徐云不忿地說，“不就是集成電路上的晶體管數量，每兩年就增加一倍嗎？我們好幾個老師上課的時候都提過。”
“不愧是科大，思維很前衛。”高凡翹個大拇指，贊了一句，卻換來了徐云一個白眼。
摩爾定律是1965年提出的，不過直到70年代中期才受到人們的重視。隨著集成電路技術的迅猛發展，摩爾定律一再得到印證，一時間在西方科技界和產業界倍受推崇。
此時的中國，在全球半導體市場上完全是小透明，根本不具備評論半導體產業發展的資格，因此也就沒什么人會關注和提及摩爾定律。
徐云說他有好幾位老師上課時候都提過摩爾定律，高凡自然是要表示欽佩的。只是以他的身份，擺出這樣一副嘴臉來夸獎中科大，徐云怎么能不對他表示一番鄙夷。
“既然你知道摩爾定律，那么你想想看，芯片制造技術將會以什么樣的速度發展？g線光刻機肯定很快就會落伍，下一代i線光刻機會迅速普及。不出十年，市場主流就會是krf光刻機。”高凡侃侃而談。
徐云在心里默想了一下，點點頭道：“你說得有理，不過，這也是國際市場的潮流吧？咱們國內現在連g線光刻機都沒能掌握，你說的krf，怎么也得是20年以后的事情了。”
“我們為什么就不能瞄準國際市場呢？”高凡看著徐云，“造光刻機，需要高精密機床，咱們一時造不出來。可是光刻膠的技術沒多高的門檻，咱們為什么不能提前一步占領這個市場呢？”最近轉碼嚴重，讓我們更有動力，更新更快，麻煩你動動小手退出閱讀模式。謝謝</p>