“當前的行業現狀是，193納米液浸式光刻機系統是最為成熟的技術，在精確度以及成本上做到了一個近乎完美的平衡，短時間內很難被取代，但終究也是要被取代的，就是極紫外光刻機技術。”
安靜的會議大廳里，羅晟有條不紊的說道：“這樣做的風險是很高，但是不可否認的是半導體業的發展也的的確確到了一個新的轉折點，摩爾定律正在面臨巨大的挑戰，沒有人能夠確定去年總產值3000億美元的半導體產業將如何引導未來5年或10年內的發展。”
“也無人能夠知曉‘后摩爾定律’時代的半導體行業未來會是什么樣子。”說到這里羅晟心中補充了一句“除了我”，停頓了片刻繼續說道：
“利潤的下降也可能是無法避免的，但是如果摩爾定律能夠有效的避免半導體業營業額的下降，即便只有15%，其現金流也仍然是整個美國游戲產業營業額的兩倍。”
朱昱下意識的點點頭，在羅晟停頓的時候發言道：“光刻、蝕刻系統制造的精細程度取決于很多因素，但是能實現跨越性進步的有效方法是降低使用光源的波長。幾十年來，光刻機廠商就是這么做的，把晶圓曝光工具從人眼可見的藍光端開始逐漸減少波長，一直到光譜上的紫外端……”
羅晟繼續說道：“摩爾定律的終點已經被大家預見到了，半導體行業也一直都在尋找方法來保持技術革新和進步，全球的領先芯片制造廠商們也在努力改進技術，即：將晶片從光刻機中加工取出后再放入其中，并在原來的位置精準的印刷出下一層圖像，EUV是較為不同的一個。”
“我堅信這個技術可以實現，是未來的趨勢，并且該技術會成為芯片制造商們最劃算的選擇。所以我的想法是接下來不惜成本合力做出一個EUV光刻機樣機，爭取在2015年左右實現這個目標，使其他研究者們可以測試這種方法。”
不一會兒，勝利精密的掌門人高總提出了不同的看法，他說道：“但是羅總，據我所知EUV技術是非常困難的。在使用波長近乎為X光的射線去蝕刻的時候，物理學知識并不能為工程師們幫上多少忙。”
與會的其它人也不由得點點頭，極紫外光刻技術在上個世紀90年代后期就已經被提出來了，如今過去了十多年，行業大拿A**L公司也毫無進展，其難度可想而知。
末了，眾人不由得看向了羅晟，詫異的發現善于創造奇跡的年輕世界首富卻是一臉輕松，這不禁讓大家好奇了。
羅晟調出了一組數學模型，不用他示意眾人已經紛紛看向了大屏幕，而羅晟有條不紊的說道：
“高總說的不無道理，所以我最終選擇了13.5納米波長射線，這種光可以輕易地被很多材料吸收，即使我們呼吸的空氣也是完全的黑色，因為它也吸收了最后一點射線，我很早就意識到了EUV光刻機只能在真空下運行，晶圓則通過一個氣閘進出光刻機。”
羅晟補充道：“之后接踵而來的就是讓射線彎曲的問題了，EUV也能被玻璃吸收，所以在設備中改變其走向，需要使用反射鏡來代替透鏡，而且還不能是普通的反射鏡，普通打磨鏡片的反射率不夠，所以需要一種多層鏡面，可以將很多小的反射集中成一個單一而強大的反射，也就是所謂的布拉格反射器。”
朱昱等業內大咖們在聽了羅晟這寥寥幾句的描述，個個都感覺要給跪了的節奏，突然的一瞬間意識他真的可能在極紫外光刻技術領域再次創造出不可能出現的奇跡。
“羅總，我有個與技術無關的問題。”這時，與會的美光科技掌門人發話了。
“愿聞其詳。”
“既然你都有了成套的極紫外光刻機技術體系了，為什么不自己獨立開發呢？沒道理啊。”
此話一出，在場的人紛紛把目光投向了羅晟，心中也不禁暗暗點頭，確實沒道理啊，你羅晟一不缺錢，二不缺人，三不缺市場，這么好心的把蛋糕分給大家吃？