極紫外光刻技術的另一大瓶頸無疑就是光刻膠了。
目前的行業現狀是，半導體材料的供應都是十分集中的，而光刻膠技術算是全球集中度最高，并且壁壘也是最高的材料，被日本和北美合計占領了95%的市場份額。
三星電子半導體固然牛氣哄哄，也卻是很有實力，但實際上得看日本人的臉色，如果日本的半導體材料商在材料這塊卡一下，三星半導體就要趴窩。
休息室里正在進行臨時的技術交流探討，一位負責光刻膠技術的工程師有條不紊的說道：“在248納米和193納米的光刻中，主流有超過二十年之久都是使用有機化學放大光刻膠CAR，這是一種用來制作圖案成型的光敏聚合物。”
在極紫外光刻機下，光子專機CAR光刻膠并產生光酸，之后CAR光刻膠在曝光后的過程中進行光酸催化反應，進而產生光刻圖案。
原理就是這么個原理。
那名工程師繼續道：“把CAR光刻膠用于極紫外光刻技術上，但因為光源能量大幅度增加了，之前的實操結果顯示會出現不同且復雜的結果，進而影響芯片的良品率。”
羅晟點點頭，說道：“到了EUV技術節點，這個不單單是我們的問題，競爭者也一樣會遇到類似問題，還是得開拓新思路，想來當前業界其它的半導體設備、材料商都會想盡各種方式，或者提出新的光刻膠技術解決方案，讓極紫外光刻技術可以持續使用，從而延續摩爾定律的壽命。”
剛剛那名工程師再次說道：“新思路方面，我們項目組有多個團隊針對新的EUV光刻膠在進行多種方向的嘗試，例如仍然是液態式的金屬氧化物光刻膠，還有干式的光刻膠等方向的研發。”
羅晟想了想沉聲道：“不能我們自己悶聲干，新的EUV光刻膠技術最好是百家爭鳴，利用養蠱策略養出一個光刻膠領域的A**L來。”
聽到這話的李淳勝旋即搭了一句：“那得付出好幾倍的成本。”
羅晟攤手道：“在半導體這一塊已經投入了這么多，除了硬著頭皮往死里氪，沒有退路可言。”
說到這里旋即看向李淳勝問道：“對了，半導體光刻膠這一塊國內現在有哪些供應商？”
李淳勝：“有好幾家，只不過他們現有的技術和市場份額跟國際頂尖水平相比差的不是一丁半點，相對來說比較知名的幾家光刻膠廠商分別科華、晶銳、南達光電、容達感光、申城新陽這幾家。光刻膠研究這一塊，蔚藍海岸實驗室都跟著幾家廠商有技術上的交流。”
羅晟點點頭沒有多說什么，旋即看向剛剛那位光刻膠項目負責人問道：“新思路方面的具體進展有哪些？”
“項目組正在開展負性光刻膠課題論證研究，其分子大小是CAR有機光刻膠的五分之一，重點是光吸收率可以達到CAR的四到五倍，超算驗證結果顯示能更精密、更準確的讓電路圖成型。”
羅晟從內部數據庫查看了一下，自顧自地點頭道：“干式光刻膠技術可以重點投入，這種全新的EUV干式光刻膠技術，取代傳統的CAR光刻膠對于半導體工藝的演進大有可為，可能會是一個巨大的突破點。”
這個新技術的優勢在于提升極紫外光刻技術的敏銳度和分辨率，更可以減少原本五到十倍的光刻膠使用量，在成本節約上帶來顯著成果。
新的技術節點下誕生的芯片，成本是很高昂的，尤其是前期階段。
在當下業內以有機化學放大光刻膠CAR和無機光刻膠n-CAR為主導下，都是采用液態光刻膠技術，研究新型EUV光刻膠技術不只是蔚藍海岸實驗室，海外的廠商都在積極推進新技術的開發，畢竟極紫外光刻技術是大趨勢，這是不會改變的事實了。
但只有蔚藍海岸實驗室的新型EUV光刻膠技術是基于干式沉淀的技術，這一點算是獨創技術。
目前主流的光刻膠技術是CAR，也即是把液態光刻膠搭配涂布機設備旋涂到晶圓上，在使用溶劑曝光后再去除掉。