要知道在1997年。此時主流的光刻機線程也不過025微米。采用的還是krf248n光源。而倭國正在研發的193n干式光刻機線程也僅僅是018微米。下一步才是013微米。90n。
也就是說采用另外一條技術路線的華國人有3到5年的寶貴追趕時間。有這個時間應該有機會取得突破。
只要這款光刻機被攻克。華國就很可能實現彎道超車。為此賭一把絕對是值得的。畢竟華投有了相應的技術積累。
除此之外。還有一個好處。那就是193n干式光刻機到了65n左右時。差不多快到極限了。而采用華國路線。線程可以直接到達30n左右。都問題不大。
所以到達這段線程區間時。歐美要么更換光源全部推倒重來。要么與華國交換技術。前者需要大量投資。而后者有現成的技術。到時候除非資本家腦子短路了。否則他們一定會與華國交換專利。因此華國的技術路線。明顯才是未來。那么現在投入再多。也是值得的。
就在1998年初。更換了身份之后的孫祖杰。以華投決策小組組長的身份。出席了新型光刻機的研發動員大會。林先生也參加了這次動員大會。
這幾年林先生的研究團隊精力都放在天翼那條05微米芯片生產線的調試和改進上。并沒有權限知道華投在光刻機領域的那些秘密。
經過幾年的合作之后。林先生的研究團隊已經被認可。所以今天他才有資格出席今天的動員大會。參與到這款代表未來的光刻機研究。
林先生聽著長吉光電所的同志公開新型光刻機的技術方案。簡直不敢相信自己的耳朵。
什么時候內地已經攻克了浸沒式光刻機。而且有了不止一代產品。那就說明他們很早就有這個思路。并已經實現。可是他們為什么又一直保密。沒有對外公開
不過轉而一想。林先生也意識到了什么。這些年內地的半導體工業一直在追趕。而且速度很快。
九十年代初就宣稱弄出了1微米光刻機。而到了95年已經攻克了05微米光刻機。所以歐美相繼對華國解禁了一部分技術封鎖。恐怕就是他們浸沒式光刻機的效果。怪不得華國人一直對自己的國產光刻機極端保密。不愿意對外公開。原來是這個原因。
這樣一來。他的興趣猛然間大了很多。他怎么也沒有想到他的思路竟然在內地已經成型。這太讓人興奮了。
尤其是當他知道孫祖杰根據他八十年代的論文。才啟動的研發時。更是高興的不得了。
“孫總助。墻里開花墻外香。我們華人能夠有這樣的追趕機會。而且我還在其中起到了一些綿薄之力。真是與有榮焉”
孫祖杰笑著點點頭。林先生提出理論。內地科學家研發出來。然后還把理論提出者請過來幫著研究。這是一件多么讓人幸福的事情呀