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商海微電子公司。
來到這家公司調研的陳今，看到面前的這臺22納米超分辨光刻機，聽了該公司的老總張昱明的介紹后。
“你說這么好的設備，不能用于芯片的制造，為什么不能？”
陳今皺著眉頭，這太可惜了吧。
“不是不能，而是太慢！我們想了各種辦法提高它的曝光效率，但曝光一張影刻，依然需要五天的時間，效率是傳統光刻幾萬分之一，這完全抵消了我們的成本優勢，只適合給一些較小規模的市場，比如軍用芯片、光學器件、高精密光柵、光子晶體陣列等等，這些領域我們的超分辨光刻機賣了好幾十臺。”
“但大規模的芯片制造，只能老老實實地發展傳統光刻。”
張昱明搖著頭道。
目前商微電子的10nm光刻機，走的就是193nm光源浸沒式光刻路線，但制造成本太高，沒有市場競爭力，又面臨著A**L的專利壁壘，故而沒有推向市場。
EUV光刻方面，商微電子與國內很多機構合作，取得了一定的突破，但也面臨專利方面的問題。
很多高精尖設備，不是說Z國人打破不了壟斷，而是專利壁壘擋在了那里。
“你們有沒有辦法加快它的曝光效率，趕上傳統光刻機呢？”
陳今問道，他覺得超分辨光刻這條路線，真的可以繼續走下去，應用于大規模芯片制造。
“辦法有！但實現太難了，以現有的技術，幾乎不可能實現。”
“你先說說你的辦法。”
“增加‘筆’的數量，就是把光刻鏡頭做小！在手指頭大小的光刻鏡頭內，集成1萬個微型鏡頭，讓這些微型鏡頭同時參與工作，完成集成電路的影刻。”
張昱明搖著頭，見陳今聽得一臉認真，不得不繼續道：“芯片內部的結構并不是非常復雜，每個die都是一樣的構造，每個晶體管也是相同的，一萬個微型鏡頭，同步完成一樣的工作，可大大加快超分辨光刻的效率。”
“甚至如果能做出這樣的光刻鏡頭，我們可以在一臺超分辨光刻設備內，集成十組、一百組光刻鏡頭，在直徑超過100英寸的晶圓上進行光刻，10萬、100萬個的微型鏡頭同時工作，整體光刻效率，甚至遠遠超過傳統光刻機！”
“但……太難了，以現有的工業制造能力，生產出那樣的光刻鏡頭，至少得等到20年以后。”
問題是二十年后，隨著工業技術的提高，傳統光刻機的造價也降下去了，超分辨光刻還是不具有明顯的競爭優勢……這條路，前景雖好，卻注定成不了一條光明大道。
“所以說，主要只是一個光刻鏡頭的問題，對么？”
陳今眼里閃爍亮光說道。
“是的，主要的難點就是鏡頭。”
“好辦，鏡頭好辦……星海科技，有辦法提供你所說的這種鏡頭。”陳今說道。
張昱明正點著頭。
突然卡了一下。
扭過頭看著陳今，一臉呆愕！
喃喃問道：“陳總你說什么？”