909工程的負面影響，是巨虧掏空了中國用于發展集成電路的資本，被日本人坑的很慘，基本掏空了中國集成電路產業的本錢。之后，國家投入集成電路產業的資金，開始銳減。步入21世紀，國內芯片產業卻是進入了真正意義上的寒冬。即便是看到國內和國際市場的工藝制程差距在擴大，但是，民間資本因為看不到利潤，所以很少投資。國家資本，則是縮小產業投入規模，僅再科研單位和高校，象征性的撥點錢，消極跟進國際上半導體工藝和設計。
當然了，現在908工程還未拖到97年投產，由于，目前國內半導體產業比歷史上更發達，無論是人才團隊，還是設備工藝，大部分都可以在國內采購，所以，94年已經投產。工藝水平初期是1.2微米，但是隨著生產線對于技術的掌握和吃透，做到0.8微米是沒問題的，甚至，半導體工藝也不是絕對的，如果團隊能挖掘潛力，讓工藝水平突破設備的極限，做到0.5微米，也不是不可能。
比如，后世的英特爾遲遲卡在10納米工藝制程，長期在使用14納米制程。相對而言，臺積電和三星，已經開始進入7納米階段。并不說說，臺積電和三星的設備比英特爾更先進。其實，三家公司的設備上，是同一代產品。
只不過，三星和臺積電，對于設備吃的更透，率先挖掘出了設備的潛力。而英特爾則是因為，關鍵的地方出了問題，一直卡在14納米，未能讓設備發揮出更大的潛力。
而90年代的1微米工藝制程的設備，如果初期投產達不到相對精度，可以降低標準，當做1.2微米的工藝，降低精度來增加良品率。隨著時間發展，不僅僅良品率會越來越高，而且，如果生產線的技術人員進行一些改進和挖掘潛力，少則不需要更換光刻機，小范圍改進就可以將工藝升級到0.8微米。如果，整個團隊都是比較牛逼，不換光刻機，用精度更落后的光刻機挖掘潛力，將工藝提升到0.5微米，也不是不可以做到。
簡單說，光刻機等等設備僅僅是設備，能把生產設備的潛力挖掘到什么地步，則是要看芯片工廠的管理和技術團隊的水平。
這跟繡花一樣，同樣的繡花針，有的人就能在布上繡出華麗精致的畫卷。不會用的門外漢，就只能用繡花針扎人。
“現在908工程怎么回事？”林棋問道。
“投產了，但是找不到訂單！”小雷表示說道，“華晶的領導到香港來化緣，求點訂單！”
“好吧，我去見一見！”林棋并沒有因為華晶工廠是908工程，就給額外的青睞。首先，現在的908工程，別說跟國際比了，就是國內比，也是落后了兩代以上。
新創芯和驪山半導體，目前主流的工藝水平，已經是0.5微米。再經過幾年挖掘潛力，不需要更換光刻機，部分的生產線，應該是可以達到0.35微米甚至0.25微米的程度。
跟兩大龍頭企業相比，華晶的地位很尷尬，也很雞肋。
當然了，華晶再差，好歹是中國的半導體公司，如果是能幫到的，林棋還是愿意幫扶的。