隨即把舞臺交給楊院士。
楊德人站起來，自豪道：“諸位，很榮幸的告訴各位，就在三個月前，由我們浙大的余杭所牽頭，聯合國內相關單位，歷經十余年年攻關的、我國第一臺具備商業化能力的高精度多電子束寫入機，已經完成了最終測試。
我們以華國古代最偉大的書法家之名，將其命名為——羲之。”
（我國首臺6n的電子束光刻機-羲之，來自hz市政府官網，不知道為啥國內媒體沒咋報道，完全沒熱度）
“羲之和傳統的光刻機不同。”楊院士接著說道：“它不需要掩膜版，而是通過計算機控制，用一道能量極高的、被聚焦到極致的電子束，直接在硅基材料上書寫電路。
因此，它可以隨時修改設計，反復調試，特別適合芯片研發初期的驗證，以及制造像超構透鏡母版這樣、獨一無二的超高精度元件。”
最后楊院士深吸了一口氣，報出了那兩個讓所有人屏息的數字：“它的性能指標，最小穩定線寬為8納米，電子束定位精度為0.6納米。”
“這不可能！定位精度0.6納米？這精度是不是太夸張了？”
“0.6納米？比老美的精度還要更高？”
“那豈不是意味著我們能造0.6納米的透鏡？臥槽，這回是光源跟不上鏡頭了。”
楊院士的臉上是掩飾不住的自豪，這可是我們浙大搞的！
“為了讓大家理解，我繼續用筆來做比喻。
8納米線寬，是羲之這支筆，在宣紙上能寫出的穩定清晰的那個筆鋒。
而0.6納米精度，則是這支筆的筆尖，本身是由幾根更加纖細的、幾乎達到原子尺度的狼毫組成的。
你必須擁有一根足夠銳利的筆尖，才有可能去駕馭和書寫出極細的筆鋒。”
林燃直視梁孟松：“梁工程師，我想你應該想到了。”
此時的梁孟松已經兩眼放光：“用這支8納米的筆，我們確實沒有辦法畫出5納米的母版。
8納米的極限，意味著我們無法穩定、大規模地制造出完美的5納米結構。
良率會是一個災難。
這可是一次性要畫超過10的14次方個天線結構，這確實做不到。
但是我們可以用這支筆，去設計一套更聰明的筆法。
我們能用duv光刻機通過多重曝光技術，造出遠比它極限更低的電路尺寸。
同樣的我們可以借鑒在晶圓制造上已經成熟的自對準四重曝光的思路，把它反過來，應用在母版制造上！
我們用羲之，先刻畫出一個16納米周期的基礎圖案，然后通過多次、精準的沉積和蝕刻，在母版上，自我生長、復制出周期為4納米的結構！
這在工藝上，極其復雜，但在理論上，是完全可行的！”
林燃鼓掌道：“沒錯，數學層面的問題我幫你們已經解決了，母版的制造需要靠各位的努力，它絕對不會容易，但也絕對能夠實現。
最后一步的刻錄，有從佳能進口的nil光刻機來幫我們做到！
一旦成功，依托華國的制造能力，我們將激活史無前例的7n制程。